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vatvalve半導體65.3 控壓擺閥65340-JAAH 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質陽極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接。可集成定制法蘭，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可根據要求使用其他材料。控制器可采用特殊控制算法（自適應、固定 PID、上游、軟抽）。控制器上的各種標準端口可通過個人計算
vatvalve控壓擺閥65340-JAAF 65.3 控壓擺閥已經安裝在數百個各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性和性能。65.3控壓擺閥還是改造現有系統的理想之選。 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質陽極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接。可集成定制法蘭，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可
vatvalve瑞士進口65.3 控壓擺閥65340-JAAE 可優化半導體與顯示器系統中的下游壓力控制和隔離 最大限度地提高生產率 65.3 控壓擺閥設定了下游壓力控制和隔離的新標準。該系列控壓擺閥專為半導體和顯示器生產系統而設計，可在較寬的流導范圍內提供可控性。65.3 控壓擺閥配備帶有集成位置控制的電機，可提供改進功能。
vatvalve高真空控制閘閥半導體專用64240-UEAG 64.2 高真空控制閘閥采用 VATLOCK 技術，可提供可靠的密封，同時不會在閥板密封處產生任何摩擦。閥板可充當節流元件，改變閥門開度的流導特性。設備上壓力控制器可計算所需的閥板位置以達到規定的設定點壓力。步進電機進行驅動，同時編碼器監控閥板位置。這樣可確保快速準確地控制過程壓力。位于關閉位置的專用 VATLOCK 鎖定機制能夠確保在
vatvalve高真空控制閘閥瑞士進口64240-PEAG 適用于高循環真空控制和隔離 64.2 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環真空工藝中進行可靠精確的控制和隔離。該系列滿足耐用性、模塊性和可維護性的標準要求，并且特別注重長正常運行時間和低購置成本。
vatvalve高真空控制閘閥64240-CEHG 適用于高循環真空控制和隔離 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環真空工藝中進行可靠精確的控制和隔離
vatvalve高真空角閥26420-KE01 角閥的關鍵性能指標是可靠性與可變性。26.4 高真空角閥系列兼具可靠性和可變性。
vatvalve超高真空閥閥門12136-JA03 真空和氣體流的高精度控制和隔離在半導體制造中是至關重要的。
vatvalve楔形高真空閘閥09134-KE14 采用楔形設計的高真空閘閥已經安裝在數千個各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性。特別是在次金圓廠應用中，它已經成為真空泵隔離的標準解決方案。該閘閥擁有多種設計選項，可以輕易集成到任何應用中。
vatvalve采用楔形設計的高真空閘閥09134-KE08 由于楔形設計，此高真空閘閥具有自清潔功能 閥門可在壓差高達 1 bar 時開啟 適用于廣泛應用的靈活配置選項
