過程控制和隔離

真空和氣體流的高精度控制和隔離在半導體制造中是至關重要的。在上游和下游過程中，所有的閥門功能必須保證在大量的循環中具有精確的重復性。其結果是：在規定的時間間隔內精確的體積流量和一致的、可靠的密封。VAT控制和隔離閥在此設定了標準。

用于半導體制造的控制和隔離的VAT真空閥組合總是根據特殊的要求而定制方案。根據不同的要求和應用領域，各個系列的性能參數和使用的閥門技術總是適應每個案例中客戶的具體需求。其主要特點包括，可適應的打開和關閉周期，穩定的自適應密封，優良的控制器技術，可實現高精度的控制，防止顆粒的激活和釋放，以及高制造質量，保證所制造的每個閥門都有確定的、穩定的性能參數。要了解更多關于VAT真空閥解決方案如何解決控制和隔離方面的挑戰，請從下面列出的系列中選擇。

vatvalve超高真空閥f閥門12136-JA03

2.1 全真空閘閥關鍵特點

特點:

設計可靠、成熟

避免產生顆粒的 VATLOCK 技術

機械鎖定在關閉位置

優勢:

性能可靠

分體式設計，易于清潔

購置成本低

技術數據

尺寸  DN 63 – 320 mm (2?" – 12")

驅動器氣動 雙作用

手動 帶推桿

閥體材料  鋁

進給機構  軸進給機構

標準法蘭  ISO-F, JIS

泄漏率閥體 < 1 × 10-9 mbar ls-1

閥座 < 1 × 10-9 mbar ls-1

壓力范圍  1 × 10-10 mbar to 1.6 bar (絕對壓強) (DN 63 – 200)

1 × 10-10 mbar to 1.2 bar (絕對壓強) (DN 250 – 320)

閥板可承受壓差閥板 ≤ 1.6 bar (DN 63 – 200)

≤ 1.2 bar (DN 250 – 320)

打開時 ≤ 30 mbar

維護前開關次數  20萬次 (DN 63 – 100)

10萬次 (DN 160 – 320)

溫度閥體 ≤ 120 °C

手動和氣動驅動器 ≤ 80 °C

電磁閥 ≤ 50 °C

位置指示器 ≤ 80 °C

加熱和冷卻速率  ≤ 30 °C h-1

材質閥體 EN AW-5083 (3.3547,

EN AW-6061 (3.3211) (DN 63 – 100)

EN AC-42100 (3.2371) (DN 160 – 320)

機構 AISI 304 (1.4301) (DN 63 – 100)

EN AW-6082 (3.2315) (DN 160 – 320)

密封閥帽、閥板 氟橡膠（例如 Viton®）

安裝位置  任何位置

電磁閥  24 VDC，5.4 W（可根據要求提供其他值）

位置指示器：觸點額定值電壓 ≤ 250 VAC ≤ 50 VDC

電流 ≤ 2 A ≤ 1.2 A

閥門位置指示  視覺（機械）

10.8

1 × 10-10mbar 至 1.2 bar (abs)

超高真空閘閥

超高真空隔離的標準

12.1

1 × 10-7mbar 至 1.6 bar (abs)

全真空閘閥

真空隔離標準

26.4

1 × 10-8mbar 至 2 bar (abs)

高真空角閥

出色的可靠性

61.3

1 × 10-8mbar 至 1.2 bar (abs)

蝶形控制閥

快速且精準的下游壓力控制

61.6

1 × 10-8mbar 至 1.2 bar (abs)

高真空蝶形控制和隔離閥

快速且精準的下游壓力控制和隔離

62.0

1 × 10-8mbar 至 1.4 bar (abs)

角控制閥

高壓高溫解決方案

64.2

DN 100 - 400

高真空控制閘閥

適用于高循環真空控制和隔離

64.8

1 × 10-10mbar 至 1.6 bar (abs)

超高真空控制閘閥

適用于標準真空控制和隔離

65.3

1 × 10-8mbar 至 1 bar (abs)

控壓擺閥

可優化半導體與顯示器系統中的下游壓力控制和隔離

65.5

1 × 10-6mbar 至 1.2 bar (abs)

高真空控制擺閥

高過程壓力、低流量腐蝕性蝕刻應用的理想之選

67.0

1 × 10-6mbar 至 1.2 bar (abs)

對稱控制閥

流量優化壓力控制

95.3

DN 25 –DN 50

高真空控制和隔離閥組合單元

體積小巧，性能出眾